【手機中國 新聞】11月19日消息,據(jù)國外媒體報道,近日三星正式宣布已經(jīng)成功研發(fā)10nm工藝,在進度上超越了對手臺積電和芯片巨頭英特爾。
三星表示,已經(jīng)成功研發(fā)出新一代S-RAM,該模塊基于10nm工藝技術(shù),并擁有128Mb的傳輸速度,比D-RAM要快很多。據(jù)稱10nm工藝比14nm工藝更具優(yōu)勢,其面積較小,空間占用減少了37.5%。該公司將于明年的國際固態(tài)電路會議(ISSCC)期間展示這一新技術(shù)。
S-RAM用于CPU高速緩存,高速和低功耗是維持其高水平性能的關(guān)鍵。三星將于2017年初量產(chǎn)新一代基于10nm工藝的S-RAM模塊,而臺積電和Intel目前的S-RAM模塊,仍然使用16nm和14nm工藝,但它們在2017年也會竭力推行10nm工藝,三星目前暫時領(lǐng)先一步。
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